[VIP第1年] 指数:3
- YK-300 正性光刻胶：分辨率达 0.35μm，线宽粗糙度（LWR）≤3nm，适用于 45nm 及以上制程，良率达 98% 以上，成本较进口产品降低 40%，已通过中芯国际量产验证。
- SU-3 负性光刻胶：支持 3μm 厚膜加工，抗深蚀刻速率 > 500nm/min，成功应用于高通 5G 基带芯片封装，良率提升至 98.5%。
- JT-2000 纳米压印光刻胶：突破 250℃耐高温极限，图形保真度 > 95%，性能对标德国 MicroResist 系列，已应用于国产 EUV 光刻机前道工艺。
广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品，主要涵盖厚板、负性、正性、纳米压印及光刻胶等类别，以满足不同领域的需求。
UV 纳米压印光刻胶：JT-2000 型号，耐强酸强碱，耐高温达 250°C，长期可靠性高，粘接强度高，重量 100g。适用于需要在特殊化学和高温环境下进行纳米压印光刻的工艺，如半导体器件制造。
其他光刻胶
- 水油光刻胶 JT-2001：属于水油两用光刻胶，具有工厂研发、可定制、使用、品质保障、性能稳定的特点，重量 1L。
- 水油光刻胶 SR-3308：同样为水油两用光刻胶，重量 5L，具备上述通用优势，应用场景。
水性感光胶推荐吉田 JT-1200，水油兼容配方，钢片加工精度 ±5μm！
作为东莞松山湖的企业，吉田半导体深耕光刻胶领域 23 年，成功研发出 YK-300 半导体正性光刻胶与 JT-2000 纳米压印光刻胶。YK-300 适用于 45nm 及以上制程，线宽粗糙度（LWR）≤3nm，良率达 98% 以上，已通过中芯国际等晶圆厂验证；JT-2000 突破耐高温极限，在 250℃复杂环境下仍保持图形稳定性，适用于 EUV 光刻前道工艺。依托进口原材料与全自动化生产工艺，产品通过 ISO9001 认证及欧盟 RoHS 标准，远销全球并与跨国企业建立长期合作，加速国产替代进程。纳米压印光刻胶哪家强?吉田半导体附着力提升 30%!江苏阻焊油墨光刻胶多少钱
吉田半导体产品矩阵。合肥3微米光刻胶供应商
正性光刻胶
- 半导体分立器件制造：对于二极管、三极管等半导体分立器件，正性光刻胶可实现精细的图形化加工，满足不同功能需求。比如在制作高精度的小尺寸分立器件时，正性光刻胶凭借其高分辨率和良好对比度，能精确刻画器件的结构，提高器件性能。
- 微机电系统（MEMS）制造：MEMS 器件如加速度计、陀螺仪等，结构复杂且尺寸微小。正性光刻胶用于 MEMS 制造过程中的光刻步骤，可在硅片等材料上制作出高精度的微结构，确保 MEMS 器件的功能实现。
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